CW      Wafer de calibration

Description Spécifications techniques Documents Produits associés
Description Spécifications techniques Documents Produits associés

Référence

CW

Désignation

Wafer de calibration

Description

Wafer permettant de calibrer un système 4 pointes

- Wafer Silicium
- Diamètre 4 pouces (100 mm)


Spécifications techniques

Gamme de résistivité

0,01 à 500 Ohm/sq

Taille du wafer

100 mm

Matériau

Silicium

Epaisseur

460 µm

Durée de certification

1 an

Produits associés

MW-Pack4PP-M - Ensemble de mesure 4 pointes manuel gamme moyenne résistivité
Système de mesure 4 pointes pour laboratoires, pour la recherche et petites productions. Le stand comprend plusieurs fonctionnalités lui permettant d'assurer des mesures de résistivité et de résistance de surface grâce à 4 pointes précises. Il est possible de caractériser les matériaux fabriqués par dopage semi-conducteur, dépot de métal ou sur verre, matériaux caoutchouteux...

Un levier manuel permet de faire un mouvement en Z de contact et non contact avec une répétabilité de l'ordre du micron. De plus, une molette de réglage située sur le coté droit permet d'affiner avec précision le mouvement en Z.
L'échantillon à tester est monté sur un support mobile qui permet de se placer sous la tête de mesure facilement entre chaque point de mesure.


- Un micro-switch permet d'assurer l'injection du courant à partir du moment où toutes les pointes sont en contact.
- La mesure est effectuée par un appareil externe Keithley 2450.

Le système de mesure utilise un logiciel de mesure et d'affichage des résultats qui permet l'exportation des données pour un traitement de données postérieur. Il est possible d'effectuer une cartographie de l'échantillon en fonction des résistivités ou des épaisseurs mesurées.
L'utilisateur saisit la taille et forme de l'échantillon, bord d'exclusion et nombre de point à tester. Une image graphique des points de mesure cibles est affichée. A la fin du test de tous les points, nous retrouvons la moyenne des valeurs mesurées, l'écart type ainsi que les maximums et minimums de mesure.
S302 - Stand de mesure 4 pointes
Le système se compose d'une potence de maintien de la tête de tests avec levier de descente et d'un plateau de réception pour wafer de 4, 6, 8 ou 12 pouces. Le positionnement de l'échantillon est manuel ainsi que la mise en contact de la tête 4 pointes sur l'échantillon.

- Un micro-switch permet d'assurer l'injection du courant à partir du moment où toutes les pointes sont en contact
- La mesure est effectuée par un appareil externe de type Keithley qui peut faire partie de la fourniture
- Le système peut être complété par le logiciel de mesure et d'affichage des résultats
- Parfait pour pour laboratoires, universités, centres de recherche... dans le domaine caractérisation de matériaux
QUADPRO - Système de mesure 4 pointes semi-automatique évolutif
Ce système est un dérivé du système de mesure PRO4 dans une version semi-automatique (ou manuel) et pour diverses gammes de résistivité, faible et haute résistivité (jusqu'à 10 Gohm/sq).

• Un contrôleur en température et un logiciel optionnel permet une gestion du coefficient TCR
• Adapté aux applications Recherches sur matériaux semi-conducteurs


280I - Système de mesure 4 pointes semi-automatique
Gamme de mesure de 1 mohm/sq à 8E11ohm/sq, mesures 1pt, 5 pts ou cartographie pour ces systèmes semi-automatiques, cartographie et analyse jusqu'à 6000 points.

- Gamme de mesure standard et étendue, stockage et récupération des valeurs de mesure, fonctions de recherche de résultats évoluées
- Cartographies de mesure polaires ou rectangulaires, jusqu'à 650 points de mesure, scan de diamètre, sites de tests "custom"
- Compensation d'effet de bord, détection automatique de la polarité...
- Ces appareils permettent de répondre à tous les besoins en terme de qualification de résistance de couche, que ce soit en R&D et manuel ou en mode production
333A - Système de mesure 4 pointes semi-automatique
Gamme de mesure de 1 mohm/sq à 8E5ohm/sq, mesures 1pt, 5 pts ou cartographie pour ces systèmes semi-automatiques, cartographie et analyse jusqu'à 6000 points jusqu'au wafer 300mm.

- Gamme de mesure standard et étendue, stockage et récupération des valeurs de mesure, fonctions de recherche de résultats évoluées
- Cartographies de mesure polaires ou rectangulaires, jusqu'à 650 points de mesure, scan de diamètre, sites de tests "custom"
- Compensation d'effet de bord, détection automatique de la polarité...
- Ces appareils permettent de répondre à tous les besoins en terme de qualification de résistance de couche, que ce soit en R&D et manuel ou en mode production
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