CARACTERISATION DES COUCHES ELECTRONIQUESCroissance de couche électronique par RTP (Rapid Thermal Processor)

RTP1200Rapid Thermal Processor 1200°C

Le RTP1200 est un système puissant et simple d'utilisation qui permet d'atteindre une très haute température rapidement grâce à 4 lampes halogène.

- Réglage de la vitesse de montée en température
- Système sous vide
- Injection de gaz possible
- Idéal pour optimisation de contacts

A PROPOS : Croissance de couche électronique par RTP (Rapid Thermal Processor)

Le procédé RTP utilise une élévation rapide de température dans une atmosphère contrôlée afin de faire croître une couche semi-conductrice (oxyde...) sur un matériau semi-conducteur par un procédé simple et reproductible.
Notre gamme d'appareils RTP est destinée à un usage laboratoire pour des plaquettes jusqu'à 100mm

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