CARACTERISATION DES COUCHES ELECTRONIQUESCroissance de couche électronique par RTP (Rapid Thermal Processor)

RTP1200Rapid Thermal Processor 1200°C

Le RTP1200 est un système puissant et simple d'utilisation qui permet d'atteindre une très haute température rapidement grâce à 4 lampes halogène.

- Réglage de la vitesse de montée en température
- Système sous vide
- Injection de gaz possible
- Idéal pour optimisation de contacts

RTP1300Rapid Thermal Processor 1200°C

Le RTP1300 est un système puissant et simpe d'utilisation qui permet d'atteindre une très haute température rapidement, adaptable pour plaquettes jusqu'à 100mm.

- Réglage de la vitesse de montée en température
- Système sous vide
- Injection de gaz possible
- Idéal pour optimisation de contacts

A PROPOS : Croissance de couche électronique par RTP (Rapid Thermal Processor)

Le procédé RTP utilise une élévation rapide de température dans une atmosphère contrôlée afin de faire croître une couche semi-conductrice (oxyde...) sur un matériau semi-conducteur par un procédé simple et reproductible.
Notre gamme d'appareils RTP est destinée à un usage laboratoire pour des plaquettes jusqu'à 100mm

Pour toute information, devis, commande ou demande de rendez-vous avec un spécialiste technico-commercial. +33 (0)476 561 617

Catégories de produits

CARACTERISATION DE COUCHES

TESTS ET BURN IN DES COMPOSANTS

PROCEDES BACK-END

TEST SOUS POINTES

Applications

CARACTERISATION DES COUCHES ELECTRONIQUES

CONTRÔLE D'INSTRUMENTATION

TESTS SOUS POINTES

TESTS ELECTRIQUES DE COMPOSANTS EN BOITIER

DECOUPE DES SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS

5 rue de la Verrerie

38120 Le Fontanil-Cornillon

Grenoble / France

Fax : +33(0) 476 757 484

RCS Grenoble B 381 001 171 - APE 4652Z

TVA FR 48 381 001 171