Croissance de couche électronique par RTP (Rapid Thermal Processor)

Le procédé RTP utilise une élévation rapide de température dans une atmosphère contrôlée afin de faire croître une couche semi-conductrice (oxyde...) sur un matériau semi-conducteur par un procédé simple et reproductible.
Notre gamme d'appareils RTP est destinée à un usage laboratoire pour des plaquettes jusqu'à 100mm
RTP1200
Rapid Thermal Processor 1200°C
Rapid Thermal Processor 1200°C
Le RTP1200 est un système puissant et simple d'utilisation qui permet d'atteindre une très haute température rapidement grâce à 4 lampes halogène.

- Réglage de la vitesse de montée en température
- Système sous vide
- Injection de gaz possible
- Idéal pour optimisation de contacts
RTP1300
Rapid Thermal Processor 1200°C
Rapid Thermal Processor 1200°C
Le RTP1300 est un système puissant et simpe d'utilisation qui permet d'atteindre une très haute température rapidement, adaptable pour plaquettes jusqu'à 100mm.

- Réglage de la vitesse de montée en température
- Système sous vide
- Injection de gaz possible
- Idéal pour optimisation de contacts
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