TF lab      Système manuel de mesure de résistivité sans contact

TF lab : Système manuel de mesure de résistivité sans contact TF lab : Système manuel de mesure de résistivité sans contact
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Référence

TF lab

Désignation

Système manuel de mesure de résistivité sans contact

Description

La série TF lab 2020 permet de mesurer des couches minces semi-conductrices sans contact grâce aux courant de Foucault.
L'appareil de table compact est idéal pour des mesures rapides et précises d'échantillons jusqu'à 200 x 200 mm (8 x 8 pouces).
Cette mesure non destructive est possible pour une large gamme de substrat semi-conducteur ou conducteur.

Le TF lab 2020, qui existe en plusieurs version, permet des mesures de:

- Résistance de surface
- Résistivité
- Épaisseur
- Anisotropy

Avantages:

- Mesure non destructive
- Mesure en temps réel sans contact ultra rapide
- Mesure précise de couches minces conductrices à différente profondeur de pénétration
- Caractérisation de couches conductrices cachées et encapsulées
- Software facile d'utilisation & affichage des résultats en temps réel

Applications :

- Écran, écran tactile et écran plat
- Applications OLED et LED
- Couches de graphène
- Wafer et cellules photovoltaïques
- Wafer semi-conducteur
- Couche de métallisation et métallisation de wafer
- Électrodes de batterie
- Papier et textile conducteurs
- Conducteur organique
- Polymère
- Verre architectural revêtu
- Verre électrochrome intelligent, Smart Glass

Spécifications techniques

Taille du wafer

10x10 à 200x200 mm

Gamme de résistance surfacique

0,01 à 500 Ohm/sq

Type de mouvement

Fixe

Logiciel

Inclus

SMU

Interne

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