TF lab      Système manuel de mesure de résistivité sans contact

TF lab : Système manuel de mesure de résistivité sans contact
TF lab : Système manuel de mesure de résistivité sans contact
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TF lab : Système manuel de mesure de résistivité sans contact

Référence

TF lab

Désignation

Système manuel de mesure de résistivité sans contact

Description

La série TF lab 2020 permet de mesurer des couches minces semi-conductrices sans contact grâce aux courant de Foucault.
L'appareil de table compact est idéal pour des mesures rapides et précises d'échantillons jusqu'à 200 x 200 mm (8 x 8 pouces).
Cette mesure non destructive est possible pour une large gamme de substrat semi-conducteur ou conducteur.

Le TF lab 2020, qui existe en plusieurs version, permet des mesures de:

- Résistance de surface
- Résistivité
- Épaisseur
- Anisotropy

Avantages:

- Mesure non destructive
- Mesure en temps réel sans contact ultra rapide
- Mesure précise de couches minces conductrices à différente profondeur de pénétration
- Caractérisation de couches conductrices cachées et encapsulées
- Software facile d'utilisation & affichage des résultats en temps réel

Applications :

- Écran, écran tactile et écran plat
- Applications OLED et LED
- Couches de graphène
- Wafer et cellules photovoltaïques
- Wafer semi-conducteur
- Couche de métallisation et métallisation de wafer
- Électrodes de batterie
- Papier et textile conducteurs
- Conducteur organique
- Polymère
- Verre architectural revêtu
- Verre électrochrome intelligent, Smart Glass

Spécifications techniques

Taille du wafer

10x10 à 200x200 mm

Gamme de résistance surfacique

0,01 à 500 Ohm/sq

Type de mouvement

Fixe

Logiciel

Inclus

SMU

Interne

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