CWWafer de calibration
Spécifications :
• Wafer Silicium
• Diamètre 4" (100 mm)
GOO
Référence
280I
Désignation
Système de mesure 4 pointes semi-automatique 8"
APPLICATIONS
Systèmes semi-automatique de mesure 4 pointes en ligne sur échantillon allant de 10mm à 200mm de diamètre.
Grâce à leurs chuck motorisés, les 280I permettent de cartographier jusqu'à 6000 points de mesure sur des gammes de résistance de surface de 1 mohm/sq à 8E5 Ohm/sq.
Spécification:
• Gamme étendu jusqu'à 8E11 Ohm/sq.
• Différentes versions adaptées aux différentes gammes de résistance testées
• Plusieurs types de cartographie : 1pts, 5pts, 9pts, diagonale, carthésien, customisé etc..
• Algorithme de calcul puissant
• Compensation effet de bord, facteur géométrique
• Communication SEC II
• Version possible en Full-Automatique avec chargement de wafers via cassette et pré-aligner
Application:
- Si, Ge, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN, ZnO, TCOs
- Composant optoélectronique
- Nanomatériaux
- Capteurs, MEMS
- Polymère conducteur
- Dépôt d'oxyde
- Céramique & Verre
- Batteries
- Electrodes
- Photovoltaïque
Références courantes
Taille du wafer
50, 75, 100, 125, 150 et 200 mm
Gamme de résistance surfacique
1 mΩ/sq à 800KΩ/sq (ou 8E11Ω/sq)
Maintien de l'échantillon
Vide
Type de mouvement
Semi-automatique (Y, Z et Théta)
Compatibilité
Tête CP4
SMU
Interne
Répétabilité de mesure
< 0,2 %
Précision de mesure
< 0,1 %
Logiciel
Oui (Windows)
Licence
Multi-postes
Mode industriel
Oui
Recettes
Création, édition et lancement
Mesures simples
1, 5, 9 sites, 5, 6, 9, 10, 13 sites ASTM/SEMI X-Patterns ou personnalisés
Cartographies cartésiennes
Jusqu'à 5 000 sites
Cartographies polaires
9, 25, 45, 49, 65, 81, 121, 169, 225, 289, 361, 441, 529, 625
Calcul des paramètres
Res (Ω.cm), R (Ω/sq), V/I, T (cm), T(A)
Cartographie
2D, 3D et table
Export des données
Excel, CSV et ASCII (SECS II optionel)
Ordinateur
Inclus (Windows11)
Communication
RS232
Pompe à vide
Non incluse
Vide
25 in Hg - 1/4" OD
Besoins électriques
230VAC - 50Hz - Mono - 1A